中国据报已成功打造出EUV原型机　目前正在测试阶段

（深圳路透电）据消息人士透露，中国科学家今年初在深圳一座高度保密的实验室，打造出一台极紫外光刻机（EUV）的原型机，目前正在测试阶段。这项被形容为中国的“曼哈顿计划”，目标是要让中国最终能够在完全自主研发的设备上制造先进晶片。

路透社星期四（12月18日）引述两名知情人士的消息报道，称这台原型机由荷兰半导体巨头阿斯麦（ASML）的前工程师团队，通过逆向工程开发而成。这台设备已经可以运作并成功产生极紫外光，但尚未生产出可用的晶片。

目前全世界只有阿斯麦掌握了极紫外光刻机的技术。今年4月，阿斯麦首席执行官克里斯托夫·富凯（Christophe Fouquet）表示，中国还需要“许多、许多年”才能掌握这类技术。

随着中国科学家已经成功打造出一台原型机，路透社报道指中国实现半导体自主的进程，可能比分析师预期的要快上好几年。

中国依旧面临的重大技术挑战，是复制西方供应商生产的精密光学系统。据两位知情人士透露，研发团队从二手市场上的阿斯麦旧设备取得零部件，成功打造原型机。

中国政府计划在2028年前，利用国产极紫外光刻机，生产出可用的晶片。但接近这个项目的人士表示，要到2030年才能实现；这仍比分析师预估所需的10年时间提前几年。

这个项目属于中国半导体战略的一环，由中共政治局常委、中央科技委员会主任丁薛祥负责统筹。据两位知情人士及第三方消息来源透露，华为协助在全国范围内协调企业与科研机构的数千名工程师，发挥着关键作用。

知情人士指这个项目堪称中国的“曼哈顿计划”，后者是美国当年为研制原子弹而实施的战时计划。其中一位人士表示，“目标是让中国最终能够在完全自主研发的设备上制造先进晶片，并且将美国全面踢出中国的供应链。”

华为、中国国务院、中国驻华盛顿大使馆及中国工业和信息化部，均未回应路透社相关询问。