中国AI行业领袖：未来三至五年弯道超车美国概率不及20%

（北京综合讯）中国顶尖人工智能科研人员认为，尽管因缺乏晶片制造设备卡脖子，中国有望缩小与美国的技术差距，但未来三至五年，中国企业弯道超车美国科企的概率不到20%。

据路透社报道，腾讯首席人工智能（AI）科学家姚顺雨星期六（1月10日）在北京举行的AGI-Next前沿峰会上说，未来三到五年，中国企业很有可能成为全球领先的AI公司，但缺乏先进的晶片制造设备是主要技术障碍。

曾任美国OpenAI高级研究员的姚顺雨指出，中国目前在电力和基础设施方面具有显著优势，但主要瓶颈在于产能，包括光刻机和软件生态系统。

路透社上月报道，中国已完成一台光刻机的工作原型，这个设备理论上能生产可与西方媲美的尖端半导体晶片。不过知情者称，这个设备目前尚未成功生产出可用晶片，且在2030年前料难以实现量产。

姚顺雨及其他中国AI业界领袖在峰会上也指出，美国在基础设施上的大量投资使它在算力方面仍保持优势。阿里巴巴Qwen技术负责人林俊旸称，相比之下，中国在资金方面相对紧张，仅交付就可能消耗大部分计算资源。

据彭博社报道，林俊旸在峰会上直言，未来三到五年，任何中国公司通过根本性突破超越OpenAI和Anthropic等美企的可能性不到20%。这一观点也获腾讯和智谱AI等业内同行的认同。